蝕刻
以三選一題型學習異向性蝕刻、選擇比、濕式與乾式的差異等蝕刻技術的基本觀念。
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蝕刻的重點
蝕刻是將未被光阻等遮罩覆蓋的部分薄膜去除，以形成圖案的製程。有使用藥液的濕式蝕刻，以及使用電漿等的乾式蝕刻。
要準確加工微細圖案，只往縱向蝕刻的異向性，以及只蝕刻目標薄膜的選擇比相當重要。反應性離子蝕刻（RIE）是代表性的方法。
以三選一題型學習異向性蝕刻、選擇比、濕式與乾式的差異等蝕刻技術的基本觀念。
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蝕刻是將未被光阻等遮罩覆蓋的部分薄膜去除，以形成圖案的製程。有使用藥液的濕式蝕刻，以及使用電漿等的乾式蝕刻。
要準確加工微細圖案，只往縱向蝕刻的異向性，以及只蝕刻目標薄膜的選擇比相當重要。反應性離子蝕刻（RIE）是代表性的方法。