關於反應性離子蝕刻（RIE）的說明，下列何者正確？

正確答案：A. 在反應性氣體的電漿中，結合化學反應與離子轟擊來進行蝕刻

RIE是一種乾式蝕刻，結合了反應性氣體（氟系、氯系等）電漿所產生的自由基之化學反應，以及經電場加速的離子之轟擊。離子垂直入射晶圓，促進底面的反應，因此縱向蝕刻容易進行，可以做出高度非等向性的加工。與名稱給人的印象相反，它並不是只靠離子來蝕除，其本質在於與自由基的協同效應。