氧化層的蝕刻速率為100 nm/min，遮罩被蝕除的速率為20 nm/min時，對遮罩的選擇比為多少？

正確答案：B. 5

選擇比為「欲蝕刻的膜之速率 ÷ 遮罩（或底層）的速率」，即100 ÷ 20 = 5。蝕刻500 nm的氧化層時，遮罩會被蝕除100 nm，若考量過蝕刻與形狀劣化，遮罩至少需要150～200 nm左右的厚度。選擇比不足時，可加厚遮罩，或改用硬遮罩。