用於SiO2濕式蝕刻、以氟化銨緩衝氫氟酸的溶液是下列何者？

正確答案：C. 緩衝氫氟酸（BHF）

緩衝氫氟酸是在氫氟酸中加入氟化銨以穩定pH值的溶液，溶解氧化層的主要成分（HF2⁻）的濃度不易因溶液消耗而改變，蝕刻速率穩定，光阻也不易剝落。對熱氧化層的速度約為每分鐘數十至100 nm左右。一向用於氧化層的圖案化、自然氧化層的去除、膜質的評估等。