以電漿將曝光形成的光阻圖案逐步縮細，製作出比曝光極限更細的線條，這種手法是下列何者？

正確答案：A. 光阻修整（細化）

光阻修整是以氧系電漿等對光阻圖案進行等向性的逐步蝕除，使線寬變細的手法。例如曝光形成50 nm的線，再以修整縮至30 nm，一向用於形成比微影可解析寬度更細的閘極。不過間距（重複的間隔）不會變細，蝕除量的變異與LER會直接變成尺寸的變異，因此控制很重要。

• A. 正確。將光阻縮細以製作細線。
• B. 回流是加熱使膜流動的處理。
• C. 邊緣光阻去除是去除晶圓外圍光阻的處理。