薄膜沉積（CVD與PVD）
以三選一題型學習CVD、PVD、ALD的差異，濺鍍，電漿輔助CVD的特長等薄膜沉積技術的基本觀念。
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薄膜沉積（CVD與PVD）的重點
薄膜沉積是在晶圓上製作絕緣膜、半導體膜、金屬膜等薄膜的製程。大致可分為利用氣體化學反應來沉積薄膜的CVD，以及像濺鍍與蒸鍍那樣以物理方式沉積的PVD。
隨著微縮與立體化的推進，能以原子層為單位控制膜厚、並能均勻沉積在深溝槽中的ALD，重要性日益提高。
以三選一題型學習CVD、PVD、ALD的差異，濺鍍，電漿輔助CVD的特長等薄膜沉積技術的基本觀念。
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薄膜沉積是在晶圓上製作絕緣膜、半導體膜、金屬膜等薄膜的製程。大致可分為利用氣體化學反應來沉積薄膜的CVD，以及像濺鍍與蒸鍍那樣以物理方式沉積的PVD。
隨著微縮與立體化的推進，能以原子層為單位控制膜厚、並能均勻沉積在深溝槽中的ALD，重要性日益提高。