蝕刻 使用氧電漿等將光阻灰化並去除的步驟稱為什麼？ A灰化 B退火 C晶片切割 查看答案與解析 正確答案：A. 灰化 灰化是以氧電漿等將光阻的有機物氧化，並以CO2或H2O的形式去除的步驟，因為使其化為灰（ash）而得名。目的是去除已作為蝕刻或離子植入遮罩使用完畢的光阻，之後再以藥液清洗去除殘渣。為避免損傷，多採用僅照射自由基的方式，在Low-k膜上則以氫系電漿取代氧。