蝕刻
在閘極電極的蝕刻中,為了保留底層薄薄的閘極絕緣膜,一般採取的做法是下列何者?
- A從頭到尾以相同的強條件蝕刻
- B到中途以蝕刻速率快的條件蝕除,接近底層時切換為與底層選擇比高的條件
- C底層露出後仍以強條件持續蝕除一段時間
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正確答案:B. 到中途以蝕刻速率快的條件蝕除,接近底層時切換為與底層選擇比高的條件
在閘極蝕刻中,先以決定形狀的快速條件(主蝕刻)蝕除大部分,偵測到終點後,切換為幾乎不蝕除下方數nm絕緣膜的高選擇比條件(過蝕刻),去除段差的殘餘部分。將條件分成數個階段,便能同時兼顧垂直的形狀與底層的保護。若貫穿閘極絕緣膜,其下的矽會被蝕除,使電晶體成為不良品。
- A. 若維持強條件,連薄薄的底層也會被蝕除。
- B. 正確。分階段切換條件以保留底層。
- C. 以強條件持續蝕除,底層會被貫穿。