蝕刻
在蝕刻速率為100 nm/min的條件下蝕刻3分鐘，被蝕除的膜厚為多少？
- A約3,000 nm
- B約33 nm
- C約300 nm
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正確答案：C. 約300 nm
被蝕除的厚度為「蝕刻速率 × 時間」，即100 nm/min × 3 min = 300 nm。實際上會考量膜厚與蝕刻速率的變異，在偵測到終點之後再多蝕刻一點（過蝕刻）。反推可知，蝕除500 nm的膜需要5分鐘，若含20%的過蝕刻則約需6分鐘。設備中會結合這個時間與終點偵測來管理。
- A. 約3,000 nm大了一個數量級。
- B. 約33 nm是100除以3的值。
- C. 正確。100 × 3 = 300 nm。