蝕刻 關於濕式蝕刻的一般特徵，下列何者正確？ A因使用電漿，所以非等向性高 B一般為等向性進行，容易鑽入遮罩下方 C必須使用真空設備 查看答案與解析 正確答案：B. 一般為等向性進行，容易鑽入遮罩下方 濕式蝕刻是利用藥液的化學反應溶解膜層，因此一般會朝所有方向同樣地進行（等向性），並以與膜厚相當的程度鑽入遮罩下方（側蝕）。其優點是設備簡單、可一次處理多片，而且因為是化學反應，容易獲得較高的選擇比。形成微細圖案時使用乾式蝕刻，但在膜的整面去除與清洗上至今仍然很重要。