蝕刻

表示晶圓面內蝕刻速率變異之小的指標是下列何者?

  1. A選擇比
  2. B均勻性
  3. C縱橫比
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正確答案:B. 均勻性

均勻性表示晶圓中心與外圍等處的蝕刻速率或加工形狀有多一致,例如以「(最大值 − 最小值)÷(2 × 平均值)」的百分比表示。均勻性不佳時,會因位置而出現蝕刻不足或過度蝕刻,使外圍晶片的良率下降。可藉由調整電漿的密度分布、氣體流動、晶圓溫度的分區控制、聚焦環等,改善至數%以下。

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