關於蝕刻在半導體製造中的角色，下列何者正確？

正確答案：A. 削除未被光阻等遮罩覆蓋部分的膜，以形成圖案

蝕刻是以微影所形成的光阻圖案等作為遮罩，藉由化學反應或離子轟擊去除未被覆蓋部分的膜或基板，進而塑造出電路圖案的步驟。必須將光阻的線寬準確地轉印到下方的膜上，在先進產品中會將尺寸的變化控制在1 nm左右以下。它與微影成對，在LSI的製造中會重複數十次。

• A. 正確。削除沒有遮罩的部分來形成圖案。
• B. 使雜質擴散的是熱處理的步驟。
• C. 附著膜的是沉積的步驟。