乾式蝕刻的終點偵測常用的方法是下列何者？

正確答案：B. 監測電漿發光光譜的變化

當正在蝕刻的膜消失、底層露出時，電漿中反應生成物的種類與量會改變，特定波長的發光強度也隨之變化。例如在氧化層蝕刻中，CO（483 nm）的發光會減弱。藉由發射光譜法（OES）監測此變化，就能即時偵測蝕刻的終點。當露出的面積非常小時訊號會變弱，因此也會使用干涉儀量測膜厚等方法。