關於原子層蝕刻（ALE）的特徵，下列何者正確？

正確答案：B. 交替重複表面改質與去除，以原子層等級控制蝕刻量

ALE重複進行自我限制性的步驟：先使表面僅一層藉由氯的吸附等方式反應而改質，再以低能量離子等僅將該層去除。由於每個循環蝕除的量固定為約0.1～0.5 nm，因此能以原子層等級精密控制，對表面的損傷也小，圖案疏密所造成的速率差異也較小。可說是ALD的蝕刻版，已開始用於GAA與閘極周邊的加工。