薄膜沉積（CVD與PVD） 在含氮氣體中濺鍍鈦靶材以形成氮化鈦（TiN）膜的方法，稱為什麼？ A真空蒸鍍 B反應性濺鍍 C離子植入 查看答案與解析 正確答案：B. 反應性濺鍍 反應性濺鍍是在氬中加入氮或氧等反應性氣體進行濺鍍，使金屬與氣體反應而形成氮化物或氧化物薄膜的方法。化合物靶材有些容易破裂、不易導電，因此其優點是可由容易處理的金屬靶材得到化合物薄膜，並可藉氣體流量調整組成。TiN用於阻障層、硬遮罩、金屬閘極的功函數調整等。