薄膜沉積（CVD與PVD）
在ALD中，因表面的自我終止反應而使每個循環的膜厚保持一定的溫度範圍，稱為什麼？
- A玻璃轉化點
- BALD窗口（ALD window）
- C製程裕度
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正確答案：B. ALD窗口（ALD window）
在ALD中，溫度過低時原料會凝結或反應不足，過高時則原料會熱分解而變成類似CVD的成長，或使吸附的分子脫附。介於其間、每個循環的膜厚大致保持一定的溫度範圍就是ALD窗口，例如以TMA（三甲基鋁）與水沉積Al2O3時，可取到約150～300 ℃的寬廣範圍。在此範圍內成膜，對溫度不均勻性的耐受度強，再現性也高。
- A. 玻璃轉化點是玻璃或聚合物開始變軟的溫度。
- B. 正確。是成長變成自我終止的溫度範圍。
- C. 製程裕度是泛指製程條件之餘裕的用語。