薄膜沉積(CVD與PVD)

利用表面材料的差異,只讓薄膜在特定位置成長的技術為下列何者?

  1. A濺鍍
  2. B全面成膜
  3. C區域選擇性沉積(area-selective deposition)
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正確答案:C. 區域選擇性沉積(area-selective deposition)

區域選擇性沉積是利用底層材料造成反應難易度的差異,例如在金屬上成膜、在絕緣膜上不成膜,僅在需要的位置形成薄膜的技術。也有以自組裝單分子層(SAM)等覆蓋不想成膜的表面以防止反應的方法。可減少微影與蝕刻的步驟,也沒有對準偏移,因此正研究其在微細配線等的應用。

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