薄膜沉積(CVD與PVD)

關於以電子束加熱材料的真空蒸鍍之優點,下列何者正確?

  1. A連高熔點材料也能蒸發
  2. B階梯覆蓋率非常高
  3. C利用原料氣體的化學反應形成薄膜
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正確答案:A. 連高熔點材料也能蒸發

電子束蒸鍍是將以數kV加速的電子束集中照射材料來加熱,因此連電阻加熱難以熔化的鎢、鉬、氧化物等也能蒸發,且來自坩堝的污染也較少。蒸發出的原子直線飛行,階梯覆蓋率低,利用這項性質,可先在光阻上成膜,再連同光阻一起去除不需要的部分,以掀離法製作電極。

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