薄膜沉積（CVD與PVD）
矽氧化膜的CVD中廣泛用作原料的液態有機矽化合物為下列何者？
- A六氟化鎢（WF6）
- BTEOS（四乙氧基矽烷）
- C三甲基鎵
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正確答案：B. TEOS（四乙氧基矽烷）
TEOS（Si(OC2H5)4）是常溫下為液體的有機矽化合物，汽化後作為CVD的原料。相較於會自燃的矽烷，較易安全處理，且容易在表面分解、繞進性佳，因此可得到階梯覆蓋率良好的氧化膜。方式也很多樣，包括熱CVD（約700 ℃）、電漿CVD（約400 ℃）、與臭氧併用的常壓CVD等，廣泛用於層間絕緣膜、側壁間隔層（sidewall）等。