什麼是區域選擇性沉積

利用底層材料的差異,只在特定位置成長薄膜的技術。因可減少微影與蝕刻步驟,在先進導線等方面正進行研究與導入。

日文名稱: 領域選択成膜

這個名詞所屬的領域: 薄膜沉積(CVD與PVD)

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反應式濺鍍 真空蒸鍍 旋轉塗佈 階梯覆蓋率 電鍍 磁控濺鍍 靜電吸盤 濺鍍 ALD(原子層沉積) CVD(化學氣相沉積)

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