薄膜沉積（CVD與PVD） 鎢的CVD中用作原料的氣體為下列何者？ ATEOS B矽烷（SiH4） C六氟化鎢（WF6） 查看答案與解析 正確答案：C. 六氟化鎢（WF6） 在鎢的CVD中，以氫還原WF6（WF6 + 3H2 → W + 6HF）來沉積鎢膜，初期的成核則使用矽烷等。其階梯覆蓋率佳，連直徑數十nm的細小接觸窗（contact hole）也能填充，且熔點高、對電流造成的劣化耐受性強，因此用於連接電晶體與配線的接觸插塞，以及3D NAND字元線的形成。