關於ALD（原子層沉積）的特徵，下列何者正確？

正確答案：B. 重複前驅物的自限性表面反應，可在原子層等級控制膜厚

ALD重複以下循環：供應原料氣體（前驅物）使其在表面僅吸附一層，以吹淨（purge）移除多餘氣體後，再供應反應氣體使其反應。當表面可反應的位置被填滿後反應即停止（自限性），因此每個循環可精密控制膜厚約0.1 nm，即使在深寬比達數十的深溝槽內也能均勻成膜。代價是成膜速度較慢。