薄膜沉積（CVD與PVD）
CVD裝置的形式中，只加熱放置晶圓的載台，而使反應爐壁保持低溫的形式為下列何者？
- A冷壁型（cold wall）
- B開放大氣型
- C熱壁型（hot wall）
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正確答案：A. 冷壁型（cold wall）
冷壁型僅以燈管或加熱器加熱晶圓（或承載盤），爐壁保持冷卻，因此爐壁上的薄膜沉積及由此產生的微粒較少，氣體的切換也可以很快。用於單片式磊晶裝置與金屬CVD。另一方面，加熱整個爐體的熱壁型溫度均勻，容易一次處理多片晶圓，用於LPCVD的批次爐，但爐壁上也會附著薄膜，因此需要定期清潔。
- A. 正確。是只加熱晶圓側的形式。
- B. CVD通常在管控氣氛的反應爐中進行。
- C. 熱壁型是加熱整個爐體的形式。