薄膜沉積（CVD與PVD）
在CVD裝置中，從晶圓上方經由眾多小孔均勻供應原料氣體的零件為下列何者？
- A噴淋頭（showerhead）
- B承載盤（susceptor）
- C裝載埠（load port）
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正確答案：A. 噴淋頭（showerhead）
噴淋頭是具有數百～數千個小孔的板子，將原料氣體均勻地噴吹到整個晶圓表面。可藉由孔的配置與大小分布來調整膜厚均勻性，在電漿CVD中兼作上電極。它的溫度受到控制，以防止噴淋頭本身附著薄膜而成為微粒。載置並加熱晶圓的載台是承載盤（加熱器），放置裝有晶圓之容器的位置則是裝載埠。