在濺鍍或蒸鍍等PVD中，深溝槽的側壁或底部不易附著薄膜，其主要理由為下列何者？

正確答案：B. 因為原子幾乎直線飛來，從溝槽入口看不到的部分難以到達

在PVD中，從靶材或蒸發源飛出的原子幾乎直線前進並附著於基板，在表面幾乎不會移動。因此溝槽的頂面或入口容易附著薄膜，而像溝槽側壁或底部這種從入口看不到的部分則難以到達（陰影效應，shadowing）。原料氣體能深入溝槽深處並藉表面化學反應成膜的CVD或ALD，階梯覆蓋率較佳。

• A. 原子並不會避開溝槽而移動。
• B. 正確。因為直線前進，看不到的部分難以到達。
• C. PVD的薄膜不會變成液體。