什麼是磁控濺鍍
在靶材背面放置磁鐵，以磁場將電子約束在靶材附近，提高電漿密度的濺鍍。可提高成膜速率，是現今濺鍍設備的主流。
日文名稱: マグネトロンスパッタリング
這個名詞所屬的領域: 薄膜沉積（CVD與PVD）
相關名詞
反應式濺鍍 真空蒸鍍 區域選擇性沉積 旋轉塗佈 階梯覆蓋率 電鍍 靜電吸盤 濺鍍 ALD(原子層沉積) CVD(化學氣相沉積)
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反應式濺鍍 真空蒸鍍 區域選擇性沉積 旋轉塗佈 階梯覆蓋率 電鍍 靜電吸盤 濺鍍 ALD(原子層沉積) CVD(化學氣相沉積)