什麼是電漿
氣體游離,電子、離子、自由基(中性的活性物種)等混合存在的狀態。用於乾式蝕刻、電漿CVD、灰化等許多製程。
日文名稱: プラズマ
「電漿」出現在1領域的2道練習題中(氧化與擴散等)。
這個名詞所屬的領域: 蝕刻
氣體游離,電子、離子、自由基(中性的活性物種)等混合存在的狀態。用於乾式蝕刻、電漿CVD、灰化等許多製程。
日文名稱: プラズマ
「電漿」出現在1領域的2道練習題中(氧化與擴散等)。
這個名詞所屬的領域: 蝕刻
電漿氮化是將氮電漿產生的活性氮,在數百 ℃ 左右的較低溫度下導入氧化層的表面附近,形成含氮約 10~20% 的氮氧化膜(SiON)。
在薄閘極氧化層的表面,導入以電漿產生之氮的處理稱為什麼?以電漿等產生的氧自由基反應性高,因此即使在 400~600 ℃ 左右的較低溫度,也能形成接近熱氧化的優質氧化層。
關於使用氧自由基的自由基氧化,下列特徵何者正確?氮氧化矽膜(SiON) 遷移率 EOT(等效氧化層厚度) 退火 自由基 熱氧化 FinFET(鰭式場效電晶體) 3D NAND 天線效應 灰化