什麼是LPCVD(低壓化學氣相沉積)

在減壓下進行的熱CVD。由於氣體分子擴散較快，膜厚均勻性與階梯覆蓋率良好，且可在立式爐管中一次處理大量晶圓。用於多晶矽與氮化膜的成膜。

日文名稱: LPCVD(減圧CVD)

這個名詞所屬的領域: 薄膜沉積（CVD與PVD）