プラズマとは

ぷらずま

気体が電離して、電子、イオン、ラジカル(中性の活性種)などが混ざった状態。ドライエッチングやプラズマCVD、アッシングなど、多くの工程で使われる。

この用語の分野: エッチング

解説の中の「プラズマ」

「プラズマ」が出てくる問題(45問)

  1. 薄いゲート酸化膜の表面に、プラズマで生成した窒素を導入する処理を何と呼ぶか。
  2. ウエハをドーパントを含むプラズマに直接さらし、低エネルギーのイオンを注入するプラズマドーピングの利点として正しいものはどれか。
  3. プラズマを使うALD(PEALD)の利点として正しいものはどれか。
  4. 酸素プラズマなどを使ってフォトレジストを灰化して除去する工程を何と呼ぶか。
  5. プラズマで生成したラジカルだけをウエハに供給するダウンフロー型エッチングの特徴として正しいものはどれか。
  6. プラズマの高周波電力をオン・オフしながらエッチングするパルスプラズマの利点として正しいものはどれか。
  7. ドライエッチングで使われる「プラズマ」の説明として正しいものはどれか。
  8. 容量結合型などのプラズマ装置で、ウエハ側の電極が自然に負の直流電位をもち、イオンをウエハに向けて加速する現象を何と呼ぶか。
  9. MEMSの犠牲層除去などで、プラズマを使わずにシリコンを等方的にエッチングできる気体はどれか。
  10. 露光でつくったレジストのパターンを、プラズマで少しずつ細らせて、露光の限界より細い線をつくる手法はどれか。
  11. エッチングに使う一般的なプラズマの中で、イオンとラジカルの数の関係として正しいものはどれか。
  12. プラズマに細い電極を差し込み、電圧を変えたときの電流からプラズマの電子温度や密度を測る方法はどれか。
  13. プラズマで生成したイオンを中性化してからウエハに当て、帯電や紫外線によるダメージを抑えて加工する研究段階のエッチング方法はどれか。
  14. シリコンのエピタキシャル成長の直前に、高温の水素雰囲気でウエハを加熱する主な目的はどれか。
  15. 酸素ラジカルを使うラジカル酸化の特徴として正しいものはどれか。

関連する用語

ラジカル CVD ドライエッチング イオン注入 アッシング 選択比 熱酸化 NF3(三フッ化窒素) FinFET フォトレジスト

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