酸化・拡散

酸素ラジカルを使うラジカル酸化の特徴として正しいものはどれか。

  1. A比較的低い温度でも良質な酸化膜をつくれ、面方位による酸化速度の差も小さい
  2. B必ず1200 ℃以上の高温が必要である
  3. C酸化膜の厚さが面方位によって大きく異なる
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正解:A. 比較的低い温度でも良質な酸化膜をつくれ、面方位による酸化速度の差も小さい

プラズマなどで生成した酸素ラジカルは反応性が高いため、比較的低い温度でも良質な酸化膜を形成できます。また、通常の熱酸化と比べて面方位による酸化速度の差が小さく、角の部分も均一に酸化できるため、立体的な構造の酸化などに使われています。

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