熱酸化とは

ねつさんか

シリコンを酸素や水蒸気の中で加熱し、表面にSiO2膜をつくる方法。ドライ酸化とウェット酸化がある。

熱酸化による酸化膜の成長 酸化前 シリコン 酸化後 SiO₂（厚さ x） シリコン 元の表面 約0.56x 約0.44x 酸化膜の厚さの約44%は、もとのシリコンを消費した分

この用語の分野: 酸化・拡散

解説の中の「熱酸化」

「熱酸化」が出てくる問題(31問)

  1. シリコンの熱酸化について、ドライ酸化(O2)とウェット酸化(H2O)の比較として正しいものはどれか。
  2. シリコンを熱酸化して厚さxのSiO2膜をつくったとき、消費されるシリコンの厚さはおよそいくらか。
  3. 熱酸化で酸化膜が十分厚くなったときの、酸化膜厚と酸化時間の関係として正しいものはどれか。
  4. 多数のウエハを一度に熱酸化するときに一般的に使われる装置はどれか。
  5. シリコンの熱酸化における酸化速度の面方位依存性として正しいものはどれか。
  6. 熱酸化膜が、拡散の際の不純物のマスクとして使える理由として正しいものはどれか。
  7. 熱酸化の際に、塩化水素(HCl)などの塩素を含むガスを少量加える主な目的はどれか。
  8. ボロンを含むシリコンを熱酸化するとき、界面付近のシリコン側のボロン濃度はどうなる傾向があるか。
  9. 熱酸化で形成したSiO2膜の比誘電率に最も近い値はどれか。
  10. 良質な熱酸化膜(SiO2)の絶縁破壊電界の目安として正しいものはどれか。
  11. 同じ希フッ酸でエッチングしたとき、熱酸化膜とCVDで成膜した酸化膜のエッチング速度の一般的な関係として正しいものはどれか。
  12. 熱酸化の際に、酸化によって生じた過剰な格子間シリコンがシリコン中に注入されて成長する欠陥はどれか。
  13. 熱酸化の温度を上げると、同じ時間で得られる酸化膜の厚さはどうなるか。
  14. 高い圧力の酸化雰囲気で熱酸化を行う利点として正しいものはどれか。
  15. Deal-Groveモデルによると、熱酸化はどこで進むか。

関連する用語

ドライ酸化 ウェット酸化 Deal-Groveモデル ラジカル 積層欠陥 CVD 自然酸化膜 プラズマ 界面準位 アニール

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