フォトレジストとは

解説の中の「フォトレジスト」

• フォトレジストは、光によって化学的な性質が変わる感光性の樹脂で、厚さ数十nm〜数µmに塗ります。

  フォトレジストの説明として正しいものはどれか。

• フォトレジストは光や熱で性質が変わる感光性の材料なので、遮光した容器に入れ、冷蔵など指定された温度で保管します。

  フォトレジストの一般的な保管方法として適切なものはどれか。

• イオン注入は室温付近で行えるため、フォトレジストをマスクとして使え、注入量はビーム電流の積算で±1%程度の精度で管理できます。

  熱拡散と比べたときのイオン注入の主な利点はどれか。

「フォトレジスト」が出てくる問題(14問)

1. イオン注入のマスクとしてフォトレジストを使うときに注意すべき点はどれか。
2. 高ドーズのイオン注入を受けたフォトレジストを除去するときに問題になりやすいことはどれか。
3. フォトレジストの説明として正しいものはどれか。
4. 酸素プラズマなどを使ってフォトレジストを灰化して除去する工程を何と呼ぶか。
5. 深い穴の加工などで、フォトレジストだけではマスクとして持たない場合に使われる、窒化膜や炭素膜などのマスクを何と呼ぶか。
6. 化学増幅型フォトレジストの主な構成要素の組み合わせとして正しいものはどれか。
7. ArF液浸露光で、フォトレジストの上に塗り、液浸の水とレジストが直接触れないようにする膜はどれか。
8. フォトレジストの現像に一般的に使われる水溶液はどれか。
9. フォトレジストの一般的な保管方法として適切なものはどれか。
10. 熱拡散と比べたときのイオン注入の主な利点はどれか。
11. 液状の材料をウエハの中心に滴下し、高速で回転させて均一な膜をつくる方法を何と呼ぶか。
12. 半導体の製造に使われるプロセス材料の主な種類の組み合わせとして正しいものはどれか。
13. リソグラフィ工程のエリアで黄色い照明が使われている主な理由はどれか。
14. 日本の半導体関連産業が世界的に強みをもつとされる分野として適切なものはどれか。

関連する用語

イオン注入 アッシング プラズマ ラジカル ハードマスク 3D NAND 化学増幅型レジスト 液浸露光 TMAH 熱拡散