HDP-CVD(高密度プラズマCVD)とは
えいちでぃーぴーしーぶいでぃー
高密度プラズマを使い、成膜と同時にイオンのスパッタで溝の入り口の膜を削りながら堆積するCVD。ボイドを抑えて狭い溝を絶縁膜で埋めるのに使われてきた。
この用語の分野: 成膜(CVD・PVD)
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高密度プラズマを使い、成膜と同時にイオンのスパッタで溝の入り口の膜を削りながら堆積するCVD。ボイドを抑えて狭い溝を絶縁膜で埋めるのに使われてきた。
この用語の分野: 成膜(CVD・PVD)
HDP-CVDでは、10¹¹ cm⁻³以上の高密度プラズマで成膜しながら、基板バイアスで引き込んだアルゴンなどのイオンで開口部の角の膜を斜めから削るため、底から順に埋め込めます。
高密度プラズマCVD(HDP-CVD)が、狭い溝の絶縁膜埋め込みに使われてきた理由として正しいものはどれか。CVD プラズマ STI(シャロートレンチ分離) ALD LPCVD(減圧CVD) 真空蒸着 ステップカバレッジ スパッタリング スピンコート 静電チャック