プラズマで生成したラジカルだけをウエハに供給するダウンフロー型エッチングの特徴として正しいものはどれか。

正解：B. イオン衝撃がほとんどないため、ダメージが少なく等方的にエッチングできる

ダウンフロー型では、プラズマを発生させる場所とウエハを離し、寿命の長い中性のラジカルだけをウエハに届けます。イオンが当たらないためダメージが少なく、等方的にエッチングできます。レジストの除去や、ダメージを嫌う工程での膜の除去などに使われます。