ラジカルとは
らじかる
不対電子をもち、化学的に非常に反応しやすい中性の原子や分子。プラズマ中にイオンよりはるかに多く存在し、化学的なエッチングや成膜を担う。
この用語の分野: エッチング
解説の中の「ラジカル」
プラズマなどで生成した酸素ラジカルは反応性が高いため、400〜600 ℃程度の比較的低い温度でも、熱酸化に近い良質な酸化膜を形成できます。
酸素ラジカルを使うラジカル酸化の特徴として正しいものはどれか。ダウンフロー型(リモートプラズマ型)では、プラズマを発生させる場所とウエハを離し、途中でイオンや電子が再結合して失われるため、寿命の長い中性のラジカルだけがウエハに届きます。
プラズマで生成したラジカルだけをウエハに供給するダウンフロー型エッチングの特徴として正しいものはどれか。プラズマ中では、分子が電離してイオンになるよりも、より低いエネルギーで解離してラジカルになる方が起こりやすく、ラジカルは電荷をもたないため壁に引き寄せられず寿命も長くなります。
エッチングに使う一般的なプラズマの中で、イオンとラジカルの数の関係として正しいものはどれか。
「ラジカル」が出てくる問題(21問)
- 酸素ラジカルを使うラジカル酸化の特徴として正しいものはどれか。
- プラズマで生成したラジカルだけをウエハに供給するダウンフロー型エッチングの特徴として正しいものはどれか。
- エッチングに使う一般的なプラズマの中で、イオンとラジカルの数の関係として正しいものはどれか。
- シリコンの熱酸化における酸化速度の面方位依存性として正しいものはどれか。
- ウエハ表面の近くで水素と酸素を反応させ、短時間で良質な薄い酸化膜をつくる方法はどれか。
- シリコンの熱酸化が一般的に行われる温度の範囲として最も近いものはどれか。
- ウエハをドーパントを含むプラズマに直接さらし、低エネルギーのイオンを注入するプラズマドーピングの利点として正しいものはどれか。
- プラズマを使うALD(PEALD)の利点として正しいものはどれか。
- 反応性イオンエッチング(RIE)の説明として正しいものはどれか。
- エッチングで形成した穴や溝のアスペクト比とは何か。
- パターンが細く深くなるほどエッチング速度が低下する現象を何と呼ぶか。
- 酸素プラズマなどを使ってフォトレジストを灰化して除去する工程を何と呼ぶか。
- 誘導結合プラズマ(ICP)型エッチング装置の特徴として正しいものはどれか。
- ウエハを極低温に冷やしてエッチングする方法が、高アスペクト比の加工で注目されている理由として正しいものはどれか。
- エッチング装置の内壁の状態が変わると加工結果が変動するため、製品の前にダミーウエハを処理して状態を安定させることを何と呼ぶか。
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