ウエハをドーパントを含むプラズマに直接さらし、低エネルギーのイオンを注入するプラズマドーピングの利点として正しいものはどれか。

正解：B. 低エネルギーで高ドーズの注入がしやすく、立体構造にも比較的均一にドーピングしやすい

プラズマドーピングは、ビームを走査する方式と違ってウエハ全面に一度にイオンを当てるため、低エネルギーでも高いドーズを短時間で注入できます。また、さまざまな方向からイオンやラジカルが届くため、フィンのような立体構造の側面にもドーピングしやすい利点があります。