マグネトロンスパッタリングとは
まぐねとろんすぱったりんぐ
ターゲットの裏側に磁石を置き、磁場で電子をターゲット近くに閉じ込めてプラズマ密度を高めるスパッタリング。成膜速度が上がり、現在のスパッタ装置の主流。
この用語の分野: 成膜(CVD・PVD)
まぐねとろんすぱったりんぐ
ターゲットの裏側に磁石を置き、磁場で電子をターゲット近くに閉じ込めてプラズマ密度を高めるスパッタリング。成膜速度が上がり、現在のスパッタ装置の主流。
この用語の分野: 成膜(CVD・PVD)
プラズマ エロージョン HDP-CVD(高密度プラズマCVD) ALD LPCVD(減圧CVD) CVD 真空蒸着 ステップカバレッジ スパッタリング スピンコート