マグネトロンスパッタリングとは

まぐねとろんすぱったりんぐ

ターゲットの裏側に磁石を置き、磁場で電子をターゲット近くに閉じ込めてプラズマ密度を高めるスパッタリング。成膜速度が上がり、現在のスパッタ装置の主流。

この用語の分野: 成膜(CVD・PVD)

「マグネトロンスパッタリング」が出てくる問題(1問)

  1. マグネトロンスパッタリングで、ターゲットの裏側に磁石を置く主な目的はどれか。

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