클린룸과 장비
클린룸의 청정도, 옐로 룸, FOUP 등 팹 환경과 장비의 기초를 객관식 문제로 학습합니다.
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클린룸과 장비: 핵심 정리
반도체 제조에서는 미세한 파티클도 결함의 원인이 되므로, 공기 중 입자를 극도로 낮게 유지하는 클린룸에서 작업합니다. 청정도는 일정 부피의 공기 중에 포함된 입자 수로 나타냅니다.
300 mm 팹에서는 웨이퍼를 FOUP이라는 밀폐 용기에 담아 자동으로 반송하며, 장비 내부만 매우 높은 청정도로 유지하는 방식이 일반적입니다.
클린룸과 장비 전체 문제 (50)
- 클린룸의 청정도는 일반적으로 무엇으로 나타내는가?
- 리소그래피 공정 구역에서 노란색 조명을 사용하는 주된 이유는 무엇인가?
- FOUP에 대한 설명으로 올바른 것은 무엇인가?
- 클린룸에서 천장에서 바닥으로 공기를 한 방향으로 흘려보내는 다운플로 방식의 주된 목적은 무엇인가?
- 클린룸 공기에서 미립자를 제거하는 데 사용되는 고성능 필터는 무엇인가?
- 웨이퍼 주위의 좁은 공간만 높은 청정도로 유지하는 개념을 무엇이라고 부르는가?
- 클린룸 내부의 기압을 주위보다 높게(양압으로) 유지하는 주된 이유는 무엇인가?
- 클린룸의 주요 발진원 중 하나로, 클린 슈트 착용으로 대책을 세우는 것은 무엇인가?
- 클린룸에서 입자가 아닌 가스 상태의 오염 물질(산, 알칼리, 유기물 등)을 가리키는 용어는 무엇인가?
- 300 mm 웨이퍼 공장에서 FOUP을 천장 레일을 따라 장비 사이로 자동 반송하는 시스템은 무엇인가?
- 클린룸 입구에서 작업자에게 강한 청정 공기를 뿜어 의복 표면의 먼지를 떨어내는 설비는 무엇인가?
- 클린룸, 특히 노광 구역에서 온도를 매우 엄격하게 일정하게 유지하는 주된 이유는 무엇인가?
- 노광 장비 등 정밀 장비에서 바닥으로부터 전달되는 진동의 영향을 억제하기 위해 사용하는 것은 무엇인가?
- 클린룸에서 공기 중에 이온을 공급하여 웨이퍼나 장비의 대전을 중화하는 장치는 무엇인가?
- 제조 장비 전면에서 FOUP의 뚜껑을 열고 웨이퍼를 청정한 환경 그대로 장비 안으로 반송하는 유닛은 무엇인가?
- 클린 슈트에 요구되는 성질로 올바른 것은 무엇인가?
- 천장에 필터와 팬을 일체화하여 늘어놓고 청정 공기를 내보내는 장치는 무엇인가?
- 클린룸의 습도를 지나치게 낮추지 않도록 관리하는 이유의 하나로 올바른 것은 무엇인가?
- 클린룸 내부로의 반입이 엄격히 제한되는 것은 무엇인가?
- 반도체 공장에서 일반적인 장비 레이아웃의 개념으로 올바른 것은 무엇인가?
- FOUP 내부를 질소로 치환(퍼지)하는 주된 목적은 무엇인가?
- 200 mm 웨이퍼 시대에 보급된, 카세트를 밀폐된 포드에 넣어 장비에 전달하는 미니인바이런먼트 방식은 무엇인가?
- 다운플로 방식 클린룸에서 바닥에 구멍이 뚫린 패널(그레이팅)을 사용하는 이유로 올바른 것은 무엇인가?
- 진공을 사용하는 공정 장비에서 반응으로 생성된 유해 물질을 포함한 배기 가스를 장비별로 처리하는 장치는 무엇인가?
- 순간 전압 강하(순저)나 정전으로 인한 제조 중 웨이퍼의 손실을 막기 위해 반도체 공장에서 도입하는 설비는 무엇인가?
- 구 미국 연방 규격의 클래스 100(1세제곱피트당 0.5 µm 이상의 입자가 100개 이하)에 해당하는 ISO 14644-1의 청정도 클래스는 무엇인가?
- 다운플로 방식 클린룸에서 일반적인 천장 취출 풍속의 기준은 무엇인가?
- 베이-체이스 방식 클린룸에서 장비 뒤쪽의 보수용 공간(체이스)의 청정도 취급으로 일반적인 것은 무엇인가?
- 유리섬유 필터 등에서 방출되어 웨이퍼의 의도치 않은 도핑(오염)의 원인이 되기도 하는 원소는 무엇인가?
- 클린룸의 일반적인 온도 설정값에 가장 가까운 것은 무엇인가?
- 클린룸 공기 중에 포함된 미립자의 수와 크기를 측정하는 데 사용되는 장치는 무엇인가?
- 클린룸 입구 등의 바닥에 놓여 신발 밑창에 묻은 먼지를 제거하는 것은 무엇인가?
- 클린룸 작업자에게서 나오는 입자의 양에 대해 올바른 것은 무엇인가?
- 회로의 미세화가 진행됨에 따라 클린룸에서 관리해야 할 입자의 크기는 어떻게 바뀌는가?
- 웨이퍼를 맨손으로 만져서는 안 되는 주된 이유는 무엇인가?
- ISO 14644-1의 청정도 클래스에 대한 올바른 설명은 무엇인가?
- 천장 일부에서 청정 공기를 내보내 실내 공기와 섞어 희석하면서 청정도를 유지하는 방식의 클린룸은 무엇인가? 청정도는 단방향류보다 낮지만 설비비는 저렴하다.
- 클린룸 공기에서 암모니아나 유기물 등의 분자 오염(AMC)을 제거하는 데 사용되는 필터는 무엇인가?
- 클린룸 공조에서 도입한 외기의 먼지를 제거하고 온도와 습도를 조정한 뒤 실내 순환 공기에 공급하는 장치는 무엇인가?
- 반도체 공장의 자동 반송 시스템에서 다음 공정으로 넘어가기 전의 FOUP을 일시적으로 보관하는 자동 창고는 무엇인가?
- 베이 방식 공장의 자동 반송에서, 베이와 베이 사이의 반송과 베이 안에서 장비 간을 잇는 반송의 명칭 조합으로 올바른 것은 무엇인가?
- 칸막이가 적은 큰 방 안에 제조 장비를 늘어놓고, FOUP 등의 밀폐 용기와 미니인바이런먼트로 웨이퍼의 청정도를 확보하는 클린룸 방식은 무엇인가?
- 높은 청정도의 다운플로 방식 클린룸에서 1시간 동안 방의 공기가 교체되는 횟수(환기 횟수)의 기준으로 가장 가까운 것은 무엇인가?
- 클린룸의 바닥재나 작업대에 도전성(정전기를 빼내는 성질)을 가진 재료가 사용되는 주된 이유는 무엇인가?
- HEPA 필터 성능의 일반적인 정의로 올바른 것은 무엇인가?
- 화학 증폭형 레지스트를 사용하는 노광 구역에서 암모니아나 아민 등 염기성 분자 오염을 특히 엄격하게 관리하는 이유는 무엇인가?
- 반도체 공장에서 고순도 가스를 공급하는 스테인리스 배관의 내면에 전해 연마(EP)를 하는 주된 이유는 무엇인가?
- 반도체 공장 클린룸 바닥에 사용되는, 격자 모양으로 구멍이 뚫린 두꺼운 콘크리트 바닥(와플 슬래브)의 역할로 올바른 것은 무엇인가?
- 반도체 공장 등 정밀 시설에서 바닥 진동의 허용 수준을 주파수별 진동 속도로 단계적으로 나타낸 지표는 무엇인가?
- 전자빔 묘화 장비나 전자현미경 등을 설치할 때 진동 외에 특히 배려가 필요한 환경 요인은 무엇인가?