클린룸과 장비
화학 증폭형 레지스트를 사용하는 노광 구역에서 암모니아나 아민 등 염기성 분자 오염을 특히 엄격하게 관리하는 이유는 무엇인가?
- A레지스트의 색이 변하기 때문에
- B노광 장비의 렌즈가 녹기 때문에
- C노광에서 발생한 산이 중화되어 패턴 상부가 처마처럼 튀어나오는(T-top) 등의 불량이 생기기 때문에
정답과 해설 보기
정답: C. 노광에서 발생한 산이 중화되어 패턴 상부가 처마처럼 튀어나오는(T-top) 등의 불량이 생기기 때문에
화학 증폭형 레지스트에서는 노광으로 발생한 극미량의 산이 촉매로 작용하여, 노광 후 가열(PEB)에서 용해성을 바꿉니다. 공기 중의 염기성 물질이 레지스트 표면에 들어오면 산이 중화되어 표면 부근만 반응이 진행되지 않고, 패턴 상부가 튀어나온 T-top 형상 등이 됩니다. ppb 수준의 암모니아로도 영향이 나타나므로 노광 장비나 코터·디벨로퍼에는 케미컬 필터가 사용됩니다.
- A. 색 변화가 문제가 아닙니다.
- B. 렌즈가 녹는 일은 없습니다.
- C. 맞습니다. 산의 중화에 의한 패턴 불량이 문제가 됩니다.