什麼是濺鍍
PVD的一種，使電漿中的離子撞擊靶材，將被撞出的原子沉積在晶圓上。
日文名稱: スパッタリング
這個名詞所屬的領域: 薄膜沉積（CVD與PVD）
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反應式濺鍍 真空蒸鍍 區域選擇性沉積 旋轉塗佈 階梯覆蓋率 電鍍 磁控濺鍍 靜電吸盤 ALD(原子層沉積) CVD(化學氣相沉積)
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