配線製程

在以電鍍填入Cu之前,以濺鍍形成的薄Cu膜,其作用下列何者正確?

  1. A防止Cu擴散的阻障層
  2. B供電鍍電流流通的導電層(晶種層)
  3. C層間絕緣
查看答案與解析

正確答案:B. 供電鍍電流流通的導電層(晶種層)

電鍍是讓電流流過晶圓表面,使Cu離子還原析出,因此需要連續延伸到溝槽內面的導電層。阻障層(TaN/Ta)電阻高,電鍍無法均勻起始,因此先在其上以濺鍍形成厚度數十nm的薄Cu晶種層,再以電鍍填入Cu。在微細溝槽中,晶種層既要薄到不堵住開口,又要連續到底部不中斷,兩者難以兼顧,因此也會使用釕襯層等。

練習這個領域 前往領域頁面

配線製程的其他題目

  1. Cu填充不完全,導孔中殘留空洞(void)時會發生的問題,下列何者正確?
  2. 在同一層中,將相鄰導線的間距縮為一半,該導線間的電容約會如何變化?(以平行板近似)
  3. 為了對上下導線層的對位偏差更有抵抗力,使導孔對準導線溝槽自對準形成的技術為下列何者?
  4. 電阻率2 µΩ·cm的導線,長度1 mm、寬度與厚度各為100 nm時,電阻約為多少?
  5. 電遷移導致空洞容易發生的位置,下列何者正確?