製程材料(氣體與藥液)

Cu種子層用濺鍍靶材所要求的純度,下列何者正確?

  1. A約6N(99.9999%)的高純度
  2. B約90%
  3. C約50%
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正確答案:A. 約6N(99.9999%)的高純度

濺鍍靶材的雜質會直接被摻入薄膜,使配線的電阻與電遷移耐受性變差。因此Cu靶材要求約6N(99.9999%)的高純度。此外,使晶粒的大小與方向一致,被撞出的原子的方向與速度就會穩定,膜厚的均勻性隨之提升。純度90%或50%的話,無法成為可用作配線的薄膜。

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