NF3(三フッ化窒素)とは
えぬえふすりー
CVD装置のチャンバーのクリーニングなどに使われるガス。地球温暖化係数が大きく、排出の削減が求められる。
この用語の分野: プロセス材料(ガス・薬液)
解説の中の「NF3(三フッ化窒素)」
NF3をプラズマで分解してつくったフッ素ラジカルで、この付着物を除去します。
三フッ化窒素(NF3)の主な用途はどれか。フッ化水素の蒸気、NF3とNH3のプラズマで生成したラジカル(SiCoNi処理)などを使う気相(ドライ)洗浄では液体を使わないため、パターン倒壊の心配がなく、成膜装置と真空でつないで処理直後に酸化させずに次の工程へ進めることもできます。
微細な構造の倒壊を防ぐため、液体を使わずに表面の自然酸化膜などを除去する方法はどれか。リモートプラズマ方式ではNF3を装置の外で高効率に分解し、フッ素ラジカルだけをチャンバーに送るため、温室効果ガスの排出を大きく減らせます。
CVD装置のチャンバークリーニングで、PFCの排出削減の観点から採用されてきた方法として正しいものはどれか。
「NF3(三フッ化窒素)」が出てくる問題(3問)
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