酸化・拡散

Deal-Groveモデルによると、熱酸化はどこで進むか。

  1. A酸化膜の最表面で、シリコン原子と酸化剤が反応する
  2. Bシリコン原子が酸化膜の表面まで拡散して反応する
  3. C酸化剤が酸化膜中を拡散し、Si/SiO2界面でシリコンと反応する
答えと解説を見る

正解:C. 酸化剤が酸化膜中を拡散し、Si/SiO2界面でシリコンと反応する

Deal-Groveモデルでは、酸化剤(O2やH2O)が酸化膜の表面に吸着し、酸化膜中を拡散して、シリコンとの界面で反応して新しい酸化膜ができると考えます。酸化膜が厚くなるほど拡散に時間がかかるため、成長は遅くなります。

この分野を解く 分野ページへ

酸化・拡散のほかの問題

  1. シリコンのドライ熱酸化で起こる化学反応として正しいものはどれか。
  2. シリコンの熱酸化が一般的に行われる温度の範囲として最も近いものはどれか。
  3. 半導体製造でいう不純物の「拡散」の説明として正しいものはどれか。
  4. シリコンの熱酸化膜の代表的な使われ方として正しいものはどれか。
  5. 拡散係数Dの単位として正しいものはどれか。