酸化・拡散

シリコンの熱酸化について、ドライ酸化(O2)とウェット酸化(H2O)の比較として正しいものはどれか。

  1. Aドライ酸化のほうが酸化膜の成長速度が速い
  2. Bウェット酸化のほうが酸化膜の成長速度が速い
  3. C両者の成長速度は同じである
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正解：B. ウェット酸化のほうが酸化膜の成長速度が速い

水蒸気を使うウェット酸化は、酸化剤のSiO2中への溶解度が高いため、ドライ酸化より酸化膜の成長速度がかなり速くなります。厚い膜が必要な素子分離などに向いています。ドライ酸化は遅いものの緻密で良質な膜ができるため、薄いゲート酸化膜に使われてきました。

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