熱酸化膜が、拡散の際の不純物のマスクとして使える理由として正しいものはどれか。

正解：A. ホウ素やリンなど多くの不純物が、SiO2中ではシリコン中より拡散しにくいため

ホウ素、リン、ヒ素などの主要な不純物は、SiO2中での拡散がシリコン中よりずっと遅いため、十分な厚さの酸化膜があれば下のシリコンへの侵入を防げます。この性質を利用して、酸化膜に窓を開けた部分だけに不純物を導入する選択拡散が行われてきました。