ボロンを含むシリコンを熱酸化するとき、界面付近のシリコン側のボロン濃度はどうなる傾向があるか。

正解：A. ボロンが酸化膜側に取り込まれやすいため、低下する

不純物はシリコンとSiO2の境界で、両側にどのような濃度比で分かれるかが決まっています(偏析)。ボロンは酸化膜に取り込まれやすいため、シリコン側の表面付近の濃度が下がります。一方、リンやヒ素はシリコン側に押し出され、界面付近の濃度が上がる傾向があります。