シリコンを熱酸化して厚さxのSiO2膜をつくったとき、消費されるシリコンの厚さはおよそいくらか。

正解：A. 約0.44x

熱酸化では、シリコン自身が酸素と反応してSiO2になります。SiとSiO2の密度や分子量の関係から、厚さxの酸化膜をつくるのに消費されるシリコンは約0.44xです。つまり酸化膜の約44%は元のシリコン表面より下に、残りは上に成長します。