什麼是光罩(Reticle)
描有電路圖案的曝光用原版。在石英玻璃基板上形成遮光膜圖案（EUV則為反射式）。縮小投影曝光設備的光罩，製作為晶圓上圖案的4倍大小。
日文名稱: フォトマスク(レチクル)
「光罩(Reticle)」出現在1領域的1道練習題中（新世代記憶體等）。
這個名詞所屬的領域: 微影
練習光罩(Reticle)的題目
MRAM 作為微控制器等的嵌入式非揮發性記憶體而受到矚目，其理由之一，下列何者正確？
- A先進邏輯製程中嵌入式快閃記憶體的製造變得困難，而可在後段製程製作的 MRAM 成為替代候選
- B比 DRAM 容量大且便宜
- C斷電後資料會消失
解析中的「光罩(Reticle)」
嵌入式快閃記憶體因浮動閘極的形成等，需要追加 10 片以上的光罩，在 28 nm 前後之後的世代，以及與 High-k／金屬閘極的組合中，已難以實現。
MRAM 作為微控制器等的嵌入式非揮發性記憶體而受到矚目，其理由之一，下列何者正確？
出現「光罩(Reticle)」的題目（1題）
相關名詞
MRAM 微控制器 非揮發性記憶體 浮動閘極 High-k／金屬閘極 磁性穿隧接面(MTJ) 晶圓代工廠 化學放大型光阻 正型光阻 光阻