主要用來描繪光罩（倍縮光罩）圖案的設備是下列何者？

正確答案：A. 電子束描繪機

光罩的圖案是由電子束描繪機製作，它將聚焦到數nm的電子束直接照射在光罩上的光阻來描繪圖案。雖然不需光罩就能描繪非常細微的圖案，但因為是一筆一筆描繪，單片有時需耗費十幾小時，所以量產時是使用光罩進行一次性轉印。先進光罩則使用同時運用數十萬道電子束的多束描繪機，高速描繪OPC與曲線圖案。